|
หัวข้อ: วิธีผลิตชิปล้ำยุคที่สุดในโลก (Microchips) เริ่มหัวข้อโดย: eskimo_bkk-LSV team♥ ที่ กันยายน 27, 2024, 06:51:09 AM โค๊ด: https://youtu.be/4h5MdY_rDHM?si=Ngw7FlqABeW2aGk2 ความเจริญก้าวหน้าที่ทำให้ชีวิตคุณสะดวกสบายมากขึ้นทุกวัน เพราะชิปตัวเล็กนิดเดียว ซึ่งมีการผลิตชิปด้วยเทคโนโลยีล้ำยุคที่สุดในโลก 0:00 วิธีผลิตชิปล้ำยุคที่สุดในโลก (Microchips) 0:38 ชิปทำงานอย่างไร? 1:43 การผลิตชิปด้วย Photolithography 5:28 การผลิตชิปด้วย EUV ถ้าคุณซูมเข้าไปดูข้างในชิป จะพบความมหัศจรรย์ เหมือนเมืองขนาดใหญ่ที่มีตึกมากมายซ่อนอยู่ซ่อนอยู่ โดยส่วนต่างๆ มีช่องว่างซึ่งเป็นระยะห่างเล็กกว่าเส้นผมคุณถึง 20,000 เท่า สร้างจากเครื่องพิมพ์ 3 มิติ ด้วยการยิงแสงเลเซอร์ ไปที่หยดดีบุกเล็กๆ ซึ่งลอยอยู่ในอากาศ ด้วยความเร็วถึง 50,000 ครั้ง/วินาที แล้วทำให้เกิด plasma ที่มีความร้อนสูงถึง 5,500 องศาเซลเซียส สรุป ชิป คือกุญแจสำคัญ สู่ความก้าวหน้าของโลกอนาคต เพราะเราต้องการชิปที่ฉลาดขึ้น เร็วขึ้น โดยใช้พลังน้อยและมีขนาดเล็กลง เสมอ เพื่อทำให้ชีวิตคุณง่ายขึ้นและปลอดภัยขึ้น ทำให้การพัฒนาเทคโนโลยีผลิตชิป เป็นเรื่องที่น่าสนใจและน่าติดตามมากครับ ว่าใครจะก้าวขึ้นเป็นผู้นำโลกคนต่อไป ping! อ้างถึง Photolithography คือ วิธีการในการผลิตแบบจากใหญ่ไปเล็กนี้ ตัวอย่างเช่น วิธีการลิโทกราฟีแบบใช้แสง (photolithography) เป็นเทคโนโลยีหลักในการสร้างวงจรไมโครอิเล็กทรอนิกส์ในปัจจุบัน โดยเฉพาะการผลิตชิพคอมพิวเตอร์ โดยมีการถ่ายแบบย่อส่วนจากแม่พิมพ์ (หรือที่เรียกว่าหน้ากาก) ด้วยแสงลงบนพื้นผิวที่ต้องการจะสร้างวงจร และนำไปผ่านขั้นตอนทางเคมีต่างๆ ที่ไปกัดก่อนพื้นผิวให้เป็นลวดลาย เหมือนแบบที่ถ่ายไว้แล้ว (คล้ายกับการถ่ายภาพแล้วไปอัดรูปลงบนกระดาษ) แต่การสร้างในลักษณะนี้มีข้อจำกัดทางเทคโนโลยี คือ การใช้แสงธรรมดาไม่สามารถให้รายละเอียดคมชัดได้ในระดับนาโน จึงมีการพัฒนาวิธีอื่นๆ ขึ้นมา เช่น การใช้แสงอัลตร้าไวโอเลต (UV) หรือใช้รังสีเอ็กซ์ (x-ray) นอกจากนั้นยังมีการประดิษฐ์เครื่องมือ ที่ใช้ลำแสงอนุภาคโลหะ มาเป็นเสมือนใบมีดที่ไปสลักสิ่งของ ให้เป็นรูปร่างระดับนาโนตามต้องการได้ ตัวอย่างง่ายๆ ในชีวิตประจำวันที่สามารถเห็นได้ ที่เป็นกระบวนการผลิตตามแนวทางแบบบนลงล่างนี้ อย่างเช่น การแกะสลัก หรือการบดย่อยวัตถุต่างๆ จากที่มีขนาดใหญ่ให้เล็กลง เป็นต้น EUV คือ การพิมพ์หินด้วยแสงอัลตราไวโอเลตแบบเอ็กซ์ตรีม ( EUVLหรือเรียกสั้นๆ ว่าEUV ) เป็นเทคโนโลยีที่ใช้ในอุตสาหกรรม เซมิคอนดักเตอร์ในการผลิตวงจรรวม (IC) ซึ่งเป็นประเภทของการพิมพ์หินด้วย แสง ที่ใช้ แสง อัลตราไวโอเลต แบบเอ็กซ์ตรีม (EUV) เพื่อสร้างลวดลายที่ซับซ้อนบนเวเฟอร์ซิลิกอน ณ ปี 2023 ASML Holding เป็นบริษัทเดียวที่ผลิตและจำหน่ายระบบ EUV สำหรับการผลิตชิป โดยกำหนดเป้าหมายที่โหนดกระบวนการ 5 นาโนเมตร (nm) และ3 นาโนเมตร ความยาวคลื่น EUV ที่ใช้ใน EUVL มีค่าใกล้เคียง 13.5 นาโนเมตร (nm) โดยใช้พลาสมาหยดดีบุก (Sn) ที่ถูกกระตุ้นด้วยเลเซอร์ (ไอออน Sn ในสถานะไอออนตั้งแต่ Sn IX ถึง Sn XIV ให้ค่าพีคสเปกตรัมการปล่อยโฟตอนประมาณ 13.5 นาโนเมตร จากการเปลี่ยนสถานะไอออน ของ 4p 6 4d n 4p 5 4d n +1 + 4d n −1 4f [ 1 ] ) เพื่อสร้างรูปแบบโดยใช้หน้ากากโฟโตสะท้อนแสง เพื่อเปิดเผยพื้นผิวที่ถูกปกคลุมด้วยโฟโตเรซิสต์ หัวข้อ: Re: วิธีผลิตชิปล้ำยุคที่สุดในโลก (Microchips) เริ่มหัวข้อโดย: ช่างเล็ก(LSV) ที่ กันยายน 27, 2024, 08:51:33 AM THANK!! wav!!
|